Tommi Kaariainen,
David Cameron,
Marja-Leena Kaariainen,
Arthur Sherman
e.a.
John Wiley & Sons Inc
e druk, 2013
9781118062777
Atomic Layer Deposition
Principles, Characteristics, and Nanotechnology Applications
Specificaties
Gebonden, 272 blz.
|
EN
John Wiley & Sons Inc |
e druk, 2013
ISBN13: 9781118062777
Rubricering
Juridisch
:
Levertijd ongeveer 16 werkdagen
Gratis verzonden
Samenvatting
Since the first edition was published in 2008, Atomic Layer Deposition (ALD) has emerged as a powerful, and sometimes preferred, deposition technology. The new edition of this groundbreaking monograph is the first text to review the subject of ALD comprehensively from a practical perspective.
Specificaties
ISBN13:9781118062777
Taal:EN
Bindwijze:Gebonden
Aantal pagina's:272
Uitgever:John Wiley & Sons Inc
Net verschenen
Rubrieken
- aanbestedingsrecht
- aansprakelijkheids- en verzekeringsrecht
- accountancy
- algemeen juridisch
- arbeidsrecht
- bank- en effectenrecht
- bestuursrecht
- bouwrecht
- burgerlijk recht en procesrecht
- europees-internationaal recht
- fiscaal recht
- gezondheidsrecht
- insolventierecht
- intellectuele eigendom en ict-recht
- management
- mens en maatschappij
- milieu- en omgevingsrecht
- notarieel recht
- ondernemingsrecht
- pensioenrecht
- personen- en familierecht
- sociale zekerheidsrecht
- staatsrecht
- strafrecht en criminologie
- vastgoed- en huurrecht
- vreemdelingenrecht